i4F | Hymmen: Zwei neue Patente für digitalen Strukturdruck ausgestellt

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Maschinenhersteller Hymmen hat zwei neue Strukturdruck-Patente erhalten – dies teilte Patentspezialist i4F mit. Beide Patente beziehen sich auf Aspekte von Hymmens fortgeschrittener digitaler Prägetechnologie DLE+ und auf weitere digitale Prägetechnologien. Ein Patent wurde durch das Europäische Patentamt (Patent EP3666525) ausgestellt, das zweite durch das chinesische Amt für geistiges Eigentum (Patent CN112188936). Beide Patente sind ausschließlich über eine i4F-Lizenz erhältlich. Das Patentportfolio der Belgier deckt alle relevanten Gerichtsbarkeiten ab – einschließlich USA, China und Europa.